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不同时程电针预处理对脑缺血再灌注大鼠血脑屏障基质金属蛋白酶-9、血管内皮生长因子的影响
作者：
林咸明
陈丽萍
姚旭
来源：
针刺研究
年份：
2015
文献类型 ：
期刊
关键词：
血脑屏障
电针预处理
脑缺血再灌注
基质金属蛋白酶
9
血管内皮生长因子
描述：
目的:观察"百会""水沟"穴不同时程电针预处理对脑缺血再灌注大鼠血脑屏障血管内皮生长因子(VEGF)和基质金属蛋白酶-9(MMP-9)表达的影响,探讨电针预处理诱导脑缺血耐受的可能机制。方法:雄性SD大鼠随机分为假手术组、模型组、电针预处理7d组、电针预处理15d组。Zea Longa改良线栓法复制大鼠大脑中动脉栓塞模型。电针预处理7d组和15d组取"百会""水沟"进行电针预处理,分别于预处理7d和15d后进行造模。采用免疫组化法、荧光定量PCR法检测血脑屏障MMP-9阳性细胞、MMP-9mRNA、VEG
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